光电器件真空镀膜平台-半导体研究所(商家)

光电器件真空镀膜mems真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

pvd真空镀膜机和cvd镀膜机区别

薄膜沉积技术根据成膜机理的不同，主要分为物理、化学、外延三大工艺。物理气相沉积镀膜设备，简称pvd真空镀膜机。化学气相沉积镀膜机，重庆光电器件真空镀膜，简称为cvd镀膜机。

     薄膜沉积技术是半导体、光伏等行业发展的关键工艺。薄膜沉积技术是指将在真空下用各种方法获得的气相原子或分子在基体材料表面沉积以获得离层被膜的技术。它既适合于制备超硬、耐蚀、耐热、化的机械薄膜，又适合于制备磁记录，信息存储、光敏、热敏、超导、光电转换等功能薄膜；此外，光电器件真空镀膜代工，还可用于制备装饰性镀膜。近20年来，薄膜沉积技术得到了飞速发展，现已被广泛应用于机械、电子、装饰等领域。