半导体光刻加工技术-半导体镀膜-吉林半导体光刻加工

微纳光刻加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，半导体光刻加工价格，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。半导体光刻加工

制作光刻掩膜版需要使用相关软件制作版图。

　　制作版图时，可以先使用ppt或者其他简单的绘图软件设计pattern，在此基础上，依据具体的图形大小、间距，使用coredraw、cad、l-edit等矢量图制作软件再次准确绘制，获得光刻掩膜版制造方需要的版图格式文件。

光刻掩膜版制作大概分为7个步骤：

步骤一、在提供的掩膜基板上涂覆一层光刻胶；

步骤二、对步骤一所述光刻胶进行---、显影，形成光刻胶图案；

步骤三、采用物理气相沉积工艺或其他工艺在所述基板上在光刻胶图案的直孔内沉积一层掩膜材料；

步骤四、去除掩膜基板和光刻胶图案，半导体光刻加工技术，得到初始掩膜板；

步骤五、在初始掩膜板的上、下表面分别形成光致刻蚀层图案；

步骤六、采用化学刻蚀工艺对初始掩膜板的下表面及直孔通孔的内壁进行刻蚀，形成具有斜锥角的曲线形凹槽；

步骤七、去除光致刻蚀层图案，得到掩膜板。