甘肃流道材料刻蚀-半导体材料-流道材料刻蚀代工

流道材料刻蚀——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，流道材料刻蚀加工平台，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

二氧化硅腐蚀后检查：

1、窗口内无残留sio2（去胶重新光刻）；

2、窗口内无氧化物小岛（去胶重新光刻）；

3、窗口边缘无过腐蚀（去胶重新光刻）；

4、窗口内无染色现象（报废）；

5、氧化膜无腐蚀（去胶重新光刻）；

6、氧化膜无划伤等（去胶重新光刻）。

欢迎来电咨询半导体研究所了解更多流道材料刻蚀~

mems材料刻蚀加工——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，流道材料刻蚀代工，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，甘肃流道材料刻蚀，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

干法刻蚀用于---的图形转移。目前我国刻蚀工艺以及刻蚀设备相对于光刻而言，已经能够达到较为---的水平。能够达到较高的刻蚀选择性、---的尺寸控制、低面比例依赖刻蚀和---的等离子体损伤。

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