上海真空镀膜厂家-半导体加工-低压气相沉积真空镀膜厂家

真空镀膜厂家——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

反射膜一般可分为两类，一类是金属反射膜，一类是全电介质反射膜。此外，还有将两者结合的金属电介质反射膜，功能是增加光学表面的反射率。

一般金属都具有较大的消光系数。当光束由空气入射到金属表面时，进入金属内的光振幅迅速衰减，使得进入金属内部的光能相应减少，而反射光能增加。消光系数越大，光振幅衰减越迅速，进入金属内部的光能越少，反射率越高。人们总是选择消光系数较大，光学性质较稳定的金属作为金属膜材料。在紫外区常用的金属薄材料是铝，在可见光区常用铝和银，在红外区常用金、银和铜，此外，铬和铂也常作一些特种薄膜的膜料。由于铝、银、铜等材料在空气中很容易氧化而降低性能，光电器件真空镀膜厂家，所以必须用电介质膜加以保护。常用的保护膜材料有一氧化硅、---镁、二氧化硅、三氧化二铝等。

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自1963年在一次偶然的机会出现了不寻常的硬度和化学性能好的化学汽相沉积（cvd）碳形式的薄膜后，国外有不少研究单位开始研究金刚石薄膜的沉积工艺.1971年，艾森伯格（aisenberg）和沙博（chabot）等人，利用离子束蒸镀法，以石墨作薄膜材料，通过气弧光放电使石墨分解电离产生碳离子。碳离子经磁场---成束，在比较高的真空条件下，在低压沉积室内的室温下的基片上沉积出了硬碳膜。这种硬碳膜具有近似于金刚石的一些特性－如透明度高、电阻抗大、硬度---。当时，这种膜被人们称作i形碳。直到1976年，斯潘塞（spencer）等人对这种应碳膜的结构进行了探讨，结果确认膜中有金刚石等数种碳系结晶，后才被人们称之为类金刚石膜。就在这一年，德贾吉恩（derjaguin）等人利用化学转变法合成出了金刚石薄膜。

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