氮化硅真空镀膜价钱-天河氮化硅真空镀膜-半导体微纳

氮化硅真空镀膜——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，氮化硅真空镀膜厂家，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，氮化硅真空镀膜工艺，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

磁控溅射真空镀膜设备常见的靶中i毒现象有：

(1)正离子堆积：靶中i毒时，靶面形成一层绝缘膜，正离子到达阴极靶面时由于绝缘层的阻挡，不能直接进入阴极靶面，而是堆积在靶面上，容易产生冷场致弧光放电---打弧，使阴极溅射无法进行下去。

（2）阳极消失：靶中i毒时，接地的真空室壁上也沉积了绝缘膜，到达阳极的电子无法进入阳极，形成阳极消失现象。

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那么磁控溅射真空镀膜机怎样解决不均匀性的问题呢？

首先，氮化硅真空镀膜价钱，要尽量---磁场的均匀性和方向一致性，形成一个相对均匀的空间磁场。

其次，要尽量---气压上下的均匀性，真空腔体设计时，要考虑真空泵的安装位置，和工艺气体进气方式以及腔体内工艺气管的布局。

第三，由于磁场和气压都不可能理想，那么就可以通过气压的不均匀来补偿磁场不均匀，让终薄膜均匀一致。

第四，靶基距也是影响均匀性的重要因素。

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