氧化铪真空镀膜服务-河南氧化铪真空镀膜-半导体材料

氧化铪真空镀膜——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，氧化铪真空镀膜工艺，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

真空镀膜机的正常工作条件

1、环境温度：10~30℃

2、相对湿度：不大于70%

3、冷却水进水温度：不高于25℃

4、冷却水质：城市自来水或相当的水

5、供电电压：380v，三相50hz或220v，单相50hz（由所用电器需要而定），电压波动范围342~399v或198v~231v，频率波动范围49~51hz；

6、设备所需的压缩空气、液氮、冷热水等压力、温度、消耗量均应在产品使用说明书上写明。

7、设备周围环境整洁、空气清洁，不应有可引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。

此外，真空镀膜设备所在实验室或车间应保持清洁卫生i。地面为水磨石或木质涂漆地面、无尘埃。为防止机械泵工作时排出的气体对实验室环境的污染，可采用在泵的排气口上面装设排气管道（金属、橡胶管）的办法，将气体排出室外。

欢迎来电咨询半导体研究所了解更多氧化铪真空镀膜哟~

氧化铪真空镀膜——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

离子镀膜技术广泛应用于装饰真空镀膜机，硬质涂层真空镀膜机，河南氧化铪真空镀膜，连续式真空镀膜机，汽车零部件真空镀膜机等等，因其居于沉积速率快，摩擦均匀性好，膜层致密好，绕射性好等优点，被市场---。

离子镀是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质离子化，在气体离子或蒸发物质离子轰击作用下，把蒸发物质或其反应物蒸镀在工件上。其中包括磁控溅射离子镀、反应离子镀、空心阴极放电离子镀（空心阴极蒸镀法）、多弧离子镀（阴极电弧离子镀）等。离子镀把辉光放电、等离子技术与真空蒸镀技术结合在一起，不仅明显地提高镀层的各种性能，而且---扩充了镀膜技术的应用范围。离子镀除兼有真空溅射的优点外 ，还具有膜层的附着力强、绕射性好、可镀材料广泛等优点。

欢迎来电咨询半导体研究所了解更多氧化铪真空镀膜哟~