半导体研究所-黑龙江感应耦合等离子刻蚀材料刻蚀

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    2023-7-22

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干法腐蚀:干法刻蚀是通过等离子气与硅片发生物理或化学反应(或结合物理、化学两种反应)的方式将表面材料去除。

那什么是等离子体呢?

等离子体是完全或部分电离的气体离子,包括相同数量的正负电荷和不同数量的未电离分子组成。当足够大的电场加于气体并使其击穿和电离时,感应耦合等离子刻蚀材料刻蚀厂家,就产生了等离子体。

等离子体由自由电子触发,这些自由电子可以由加负偏压的电极发射或由其他方法产生。自由电子从电场获得动能,黑龙江感应耦合等离子刻蚀材料刻蚀,在穿过气体的运动过程中与气体分子碰撞而损失能量。在碰撞中转移的能量使得气体分子电离,产生自由电子。这些自由电子又从电场中获得动能,以上过程不断持续。




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半导体蚀刻设备市场定义

蚀刻被认为是半导体制造周期中的重要工艺之一,因为该工艺消除了半导体表面的材料以根据其应用生成图案。半导体蚀刻设备市场的增长与半导体晶圆沉积和晶圆加工行业的增长成正比。市场范围涵盖湿式和干式两种类型的半导体蚀刻系统。

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业界有个简单的比喻:如果把芯片比作一幅平面雕刻作品,那么光刻机是打草稿的画笔,刻蚀机是雕刻刀,沉积的薄膜则是用来雕刻的基础材料。光刻的精度直接决定了电路的走向和尺寸,而刻蚀和薄膜沉积的精度则决定了光刻的尺寸能否实际加工。所以师傅用刀刻掉不用的部分,雕成想要的图形,像芯片工艺流程中的刻蚀,今天主要为大家分享刻蚀工艺。

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