lpcvd真空镀膜服务-天河lpcvd真空镀膜-半导体微纳

lpcvd真空镀膜mems真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，天河lpcvd真空镀膜，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

2.3.2速度

另一个变量是速度。对于单端镀膜机，镀膜区的传动速度可以在每分钟0~600英寸大约为0 ~ 15.24米)之间选择。对于双端镀膜机，镀膜区的传动速度可以在每分钟0~ 200英寸(大约为0~ 5.08米)之间选择。在给定的溅射速率下，传动速度越低则表示沉积的膜层越厚。

2.3.3气体

后一个变量是气体。可以在三种气体中选择两种作为主气体和辅气体来进行使用。它们之间，任何两种的比率也可以进行调节。气体压强可以在1 ~ 5x 10-3torr之间进行控制。

2.3.4阴极/基片之间的关系

在曲面玻璃镀膜机中，还有一个可以调节的参数就是阴极与基片之间的距离。平板玻璃镀膜机中没有可以调节的阴极。

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