湖北材料刻蚀平台-半导体测试-硅孔材料刻蚀平台

mems材料刻蚀加工——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，氮化硅材料刻蚀平台，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，icp材料刻蚀平台，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

干法刻蚀用于---的图形转移。目前我国刻蚀工艺以及刻蚀设备相对于光刻而言，已经能够达到较为---的水平。能够达到较高的刻蚀选择性、---的尺寸控制、低面比例依赖刻蚀和---的等离子体损伤。

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其中ccp属于中密度等离子体，icp则属于高密度等离子体。ccp技术的发明早于icp，但由于其特点的不同，两类技术并非相互取代，而是相互补充的关系。ccp的等离子密度虽然较低，但能量较高，适合刻蚀氧化物、氮氧化物等较硬的介质材料；icp的等离子密度高，能量低，可以独立控制离子密度和能量，有更灵活的调控手段，适合刻蚀单晶硅、多晶硅等硬度不高或较薄的材料。

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