半导体加工-icp材料刻蚀厂家-广东材料刻蚀厂家

材料刻蚀厂家——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

在rie工艺中，离子携带------衬底表面原子化学键的能量，离子的冲击降低了化学蚀刻反应所需的活化能，并提高了衬底表面中性物质的反应速率

在确定的蚀刻化学中，反应副产物会在表面形成并在化学时刻中起到抑制作用，

带能离子可以通过物理溅射将被副产物覆盖的下层材料暴露出来，以使其继续进行化学蚀刻反应

因此rie有时也被称为离子增强蚀刻或反应和离子蚀刻

离子轰击表面的高指向性产生了高度的各向---蚀刻

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下面分别介绍各种薄膜的腐蚀方法流程：

二氧化硅腐蚀：

在二氧化硅硅片腐蚀机中进行，国内腐蚀机做的比较好的有广东省科学院半导体研究，腐蚀液是由hf、nh4f、与h2o按一定比例配成的缓冲溶液。腐蚀温度一定时，腐蚀速率取决于腐蚀液的配比和sio2掺杂情况。掺磷浓度越高，icp材料刻蚀厂家，腐蚀越快，掺硼则相反。sio2腐蚀速率对温度敏感，温度越高，腐蚀越快。

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