陕西微纳加工平台-半导体光刻-微流控微纳加工平台

mems微纳加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

未来几年微纳制造系统和平台的发展前景包括的方面：（1）微纳制造系统的设计、建模和；

微纳加工技术具有---、科技含量高、产品附加值---特点，微流控微纳加工平台，能突显一个工业发展水平，在推动科技进步、促进产业发展、提升生活品质等方面都发挥着重要作用。广东省科学院半导体研究所微纳加工平台，是国内少数拥有完整半导体工艺链的研究平台之一，可进行镀膜、光刻、刻蚀等工艺，陕西微纳加工平台，加工尺寸覆盖2-6英寸。微纳加工平台将面向国内研机构和企业提供较全的开放服务，对半导体材料与器件的深入研发给予较全支持，能够为广大科研单位和企业提供服务。

欢迎来电咨询半导体研究所哟~

mems微纳加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

微纳加工按技术分类，光电器件微纳加工平台，主要分为平面工艺、探针工艺、模型工艺。

微纳加工工艺基本分为表面加工体加工两大块，基本流程如下：表面加工基本流程如下：

先：沉积---层材料；

第二步：光刻定义---层图形；

第三步：刻蚀完成---层图形转移；

第四步：沉积结构材料；

第五步：光刻定义结构层图形；

第六步：刻蚀完成结构层图形转移；

第七步：释放去除---层，保留结构层，完成微结构制作；

体加工基本流程如下：

先：沉积保护层材料；

第二步：光刻定义保护图形；

第三步：刻蚀完成保护层图形转移；

第四步：腐蚀硅衬底，制作三维立体腔结构

第五步：去除保护层材料。

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