反射溅射真空镀膜技术-上海真空镀膜技术-半导体材料

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    2023-5-3

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磁控溅射技术一般可以分为两种,接下来我们一一的看一看。直流溅射法是其中之一,它能够做到溅射导体材料,但是对于一些非导体或者绝缘材料,会使得表面的电荷无法达到中和状态,甚至不能电离,也就无法做到连续放点电甚至无法放电,所以对于一些绝缘靶材或者一些导电性很差的非金属靶材,就必须使用射频溅射法。这是二者之间一个简单的区别。

溅射镀膜技术在真空状态下工作的时候,荷能粒子轰击靶表面,导致被轰击的粒子在基片上发生沉积。由于被溅射原子是飞溅出来的,而且是在与具有数十电子伏特能量的正离子,所以这种原子的能量要比一般的高,反射溅射真空镀膜技术,而且对提高沉积时的原子的扩散能力有很---进作用,能够提高沉积组织的致密程度,也使得制出的薄膜有很强的附着力,能够---地附着在基片之上。



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提起膜,大多数人的反应都是给手机屏幕贴的膜吧,其实,生活中的很多常用物品的表面都是有膜的,能够起到---的保护作用,比如鼠标的外壳在制作完成之后,是需要进行镀膜的。这种膜不是像手机膜那种常规---的膜,上海真空镀膜技术,而是一种建立在基板层面上的膜。所以这种膜是需要的仪器才能够做到的。


这种设备叫作磁控溅射镀膜机,之所以称之为磁控溅射镀膜机是因为主要应用的是磁控溅射技术。这是一种通过涉及气态等离子体的沉淀技术,在镀膜时,将需要镀膜材料准备好,将等离子气体与需要镀膜的材料处于同一空间之中,利用高能离子将材料表面进行侵蚀,使得原子能够沉积在基板的表面上并形成薄膜。这样就完成了对于材料表面的“贴膜过程”。

这种磁控溅射镀膜技术可以说好处颇多。磁控溅射镀膜技术可以满足基本上所有的材料,同时还不---材料的熔化温度,无论是金属、塑料还是合金等等,都可以实现贴膜。而且在操作时是可以根据基材和涂层进行调整的,并且可以安置于腔室内的任何位置。即使是以沉积合金或者是化合物的薄膜,就可以基本保持原始材料的相似效果。






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1.1磁控溅射种类

磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电场交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而增大电子撞击气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。

1.1.1技术分类

磁控溅射在技术_上可以分为直流(dc)磁控溅射、中频(mf)磁控溅射、射频(rf)磁控溅射。


2磁控溅射工艺研究

2.1溅射变量

2.1.1电压和功率

在气体可以电离的压强范围内如果改变施加的电压,电路中等离子体的阻抗会随之改变,引起气体中的电流发生变化。改变气体中的电流可以产生更多或更少的离子,这些离子碰撞靶体就可以控制溅射速率。






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