lpcvd真空镀膜加工厂-半导体研究所

lpcvd真空镀膜mems真空镀膜加工平台——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

传动速度

玻璃基片在阴极下的移动是通过传动来进行的。低传动速度使玻璃在阴极范围内经过的时间更长，这样就可以沉积出更厚的膜层。不过，陕西lpcvd真空镀膜，为了---膜层的均匀性，传动速度必须保持恒定。

镀膜区内一般的传动速度 范围为每分钟0 ~600英寸(大约为0~15.24米)之间。根据镀膜材料、功率、阴极的数量以及膜层的种类的不同，通常的运行范围是每分钟90 ~ 400 (大约为2.286~ 10.16米)英寸之间。

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3.4.1准备过程

(1)动手操作前认真学习讲操作规程及有关资料，熟悉镀膜机和有关仪器的结构及功能、操作程序与注意事项，---安全操作。

(2)清洗基片。用无水酒精清洗基片，lpcvd真空镀膜服务价格，使基片镀膜面清洁无脏污后用擦镜纸包好，lpcvd真空镀膜加工厂，放在干燥器内备用。

(3) 镀膜室的清理与准备。先向真空腔内充气一段时间，然后升钟罩，装好基片，清理镀膜室，降下钟罩。

3.4. 2试验主要流程

(1)打开总电源，启动总控电，升降机上升，真空腔打开后，放入需要的基片，确定基片位置(a、b、c、d)确定靶位置(1、 2、3、4，其中4为清洗靶)

(2)基片和靶准备好后，lpcvd真空镀膜加工，升降机下降至真空腔密封(注意:关闭真空腔时用手扶着顶盖，以控制顶盖与强敌的相对位置，过程中注意安全，小心挤压到手指)

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