mems真空镀膜加工厂商-江西mems真空镀膜-半导体镀膜

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    2023-4-25

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3试验

3.1试验目的

熟悉真空镀膜的操作过程和方法。

了解磁控溅射镀膜的原理及方法。

学会使用磁控溅射镀膜技术。

研究不同工作气压对镀膜影响。

3.2试验设备

saj-500真空磁控溅射镀膜机(配有纯铜靶材) ;气瓶;陶瓷基片;擦镜纸。

3.3试验原理

3.3. 1磁控溅射沉积镀膜机理

磁控溅射系统是在基本的二极溅射系统发展而来,解决二极溅射镀膜速度比蒸镀慢很多、等离子体的离化率低和基片的热效应明显的问题。磁控溅射系统在阴极靶材的背后放置强力磁铁,真空室充入0.1~ 10pa压力的惰性气体(ar),mems真空镀膜加工厂商,作为气体放电的载体。




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正是因为具有这么多的---性,磁控溅射镀膜的适用范围是很广的。为基本的建材和民用的工业中都是可以使用的,比如在房屋装修中会用的地砖等材料。不仅可以让材料结实耐磨,mems真空镀膜代工,还能保持原来的---。磁控溅射镀膜在铝合金制品中装饰中也得到了较为广泛的应用。不仅能够让铝合金保持着原本的的---,---铝合金的装饰效果不变,同时可以使得铝合金装饰品的坚固结实。

还有很多的的零配件,用磁控溅射镀膜使得零部件的---,同时更具有优良的性能。家中常用的菜刀、水果刀上也有着磁控溅射镀膜的影子,镀过膜的刀具的结实耐磨,即使过去了很久仍然能够---光亮如新。还有就是在玻璃深加工的产业之中应用,生产更多更的玻璃制品,可以应用于生活的方方面面。




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一般来说:提高电压可以提高离化率。这样电流会增加,所以会引起阻抗的下降。提高电压时,阻抗的降低会大幅度地提高电流,即大幅度提高了功率。如果气体压强不变,溅射源下的基片的移动速度也是恒定的,那么沉积到基片上的材料的量则决定于施加在电路上的功率。在vonardenne镀膜产品中所采用的范围内,功率的提高与溅射速率的提高是一种线性的关系。



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