微纳光刻加工厂——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要---半导体产业发展的应用技术研究，---重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。
光刻胶涂覆后，在硅片边缘的正反两面都会有光刻胶的堆积。
光刻（photolithography)是一种图形转移的方法，在微纳加工当中不可或缺的技术。光刻是一个比较大的概念，其实它是有多步工序所组成的。
1.清洗：清洗衬底表面的有机物。
2.旋涂：将光刻胶旋涂在衬底表面。
3.---。将光刻版与衬底对准，在紫外光下---一定的时间。
4.显影：将---后的衬底在显影液下显影一定的时间，受过紫外线---的地方会溶解在显影液当中。
5.后烘。将显---的衬底放置热板上后烘，以增强光刻胶与衬底之前的粘附力。
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2003年，光刻掩膜版的90nm工艺的主流光刻技术是193nm准分子激光扫描分布投影光刻机（arf scanner），的光学光刻机---nikon、asml和canon都推出了193nm arf scanner。
特征尺寸为45nm的光刻技术包括193nm arf干法光刻技术、193nm arf浸没式光刻技术二次成像与二次---技术、带有其他液体的193nm浸没式光刻技术、极短紫外光刻技术（euv）以及无掩膜光刻技术。
在上述纳米尺寸光刻加工涉及到的工艺技术中，生物芯片光刻制作工厂，可以了解到除了无掩膜光刻技术和纳米压印光刻技术，都可以进行掩膜版光刻。我们不能否认的是，掩膜版成本较高至今还是纳米工艺达到量产的难点之一。
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坚膜，以提高光刻胶在离子注入或刻蚀中保护下表面的能力；
光刻胶行业具有---的行业壁垒，因此在全i球范围其行业都呈现寡头垄断的局面。光刻胶行业长年被日本和美国专i业公司垄断。目前前i五大厂商就占据了全i球光刻胶市场87%的份额，行业集中度高。并且高分辨率的krf和arf半导体光刻胶中心技术亦基本被日本和美国企业所垄断，产品绝大多数出自日本和美国公司。整个光刻胶市场格局来看，日本是光刻胶行业的------地。目前---对于电子材料，---是光刻胶方面对国外依赖较高。所以在半导体材料方面的国产代替是必然趋势。
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